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    只是除了曰本的厂商积极赴约之外，其他的欧美厂商只是客气答应，但就是不见人影。

    不过这也可以理解的。半导体设备的更新换代，推动半导体工艺、半导体产品及整个电子装备的更新。

    因此，从本质上讲，半导体设备不仅支撑集成电路产业的发展，同时也支撑整个电子信息产业的发展。

    半导体设备包括前道设备、后道设备、制版设备、材料制备设备等，其中最为关键的是前道微细加工设备(包括对半导体芯片进行曝光、刻蚀、掺杂、薄膜生长等工艺加工的设备，以及测量设备)。

    而微细加工技术的核心，是微细光刻技术，光学光刻设备的进步。

    自20世纪80年代后期，光学光刻技术的重点由Q线转向i线和准分子。到90年代初i线光刻开始应用。。

    在ASML推出PAS-5500之后，后续日本厂商陆续推出了自己第一款i线步进投影光刻机，比如曰本Nikon  NSR1775iTA型，Canon  FPA-200i型，日立LD-5015iCW型，美国Vstrastep2020i和2244i型等。

    这些机型均可实现0.5μm分辨率，满足16MDRAM芯片，光刻6-8英寸的片子。

    简而言之，就是PAS开了一个技术先河，当起了这个时候光刻机发展的领头羊。

    不是尼康的技术不先进，而是ASML打破了以往尼康和佳能独霸的局面，这是除曰本之外的各大半导体生产厂商所喜闻乐见的。

    正因为此，看其他各大厂商对于自己的邀请无动于衷，尼康不由恼了，于是邀请曰本的其他半导体产业链上的曰本厂家，共商半导体设备、材料供应大会。

    紧接着第二天，就流出了半导体制造耗材供应紧张的消息。而香积电也接到了以往丸红株式会社1.2微米光刻对应光刻胶供应可能断供或者推迟的通知。

    当然某些事情，尤其是刚刚和美国签署了《日美半导体第二次协议》的曰本半导体界。这些曰本半导体产业链上巨头不敢明目张胆的威胁，但是私底下散步一点小道消息，也是可以让一些人再次审时度势的。

    于是，尼康在前天正式召开通知各大厂商，将在十月下旬，正式推出自己尼康的第一款i线步进投影光刻机NSR1775iTA，邀请欧美各大厂商参观采购。甚至之前一直被ASML占据优势的苔积电、联华电等都在邀请列，向ASML和选择了ASML光刻机的厂商示威意图很是明显。

    之前，陈渡进来就是个余子贤通知金智江打探到的最新消息，以及一份有关曰本半导体界报纸的电报。

    简而言之，这一次，香积电包括苔积电等之前选择了ASML光刻机的厂商，这一次可能要因为尼康对ASML的示威当一次“池鱼”了。

    因为PAS  5500，ASML城门可能要失火，只是像香积电这样的厂商却提前连带遭了殃。

    所以，在刚刚李斯特说ASML对于半导体材料供应也没有办法的时候，余子贤玩味的盯着他看了好一会儿，甚至带上了一丝丝揶揄的味道。

    余子贤知道了事情的前因后果之后，就知道现在这个时期不是自己能够做参与其中的了。

    但是ASML可不一样，哪怕是他发动各种关系，也要完成这一次因为他引发的ASML阵营厂家半导体材料供应的危机，哪怕是请出飞利浦以及未来的美国爹，也要和平处理好这件事情……

    这事关ASML脸面和腰杆……退无可退。

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